Maszyna do PVD GALACTIC GAVA 500 CAPVD wyprodukowana została w 2022 roku w Polsce. To niezwykle zaawansowane techniczne urządzenie znajduje zastosowanie w procesie powlekania m.in. narzędzi tnących, form oraz wykrojników super trwałymi powłokami o wysokiej odporności na ścieranie i czynniki chemiczne. Proces ten realizowany jest metodą CAPVD (Cathodic Arc Physical Vapour Deposition), który w porównaniu do standardowych metod PVD, pozwala wytworzyć wysoce gęste i przylegające powłoki o dobrej szybkości osadzania i grubości (± 5 nm).
Proces napylania CAPVD polega na wydaleniu atomów metalu z umieszczonego w komorze roboczej źródła (katody) za pomocą łuku elektrycznego. Odparowane atomy przenoszą i osadzają się następnie na powierzchnię detali, tworząc cienką warstwę. Maszyna do napylania PVD GAVA 500 spełnia najwyższe standardy przemysłowe oraz wyposażona jest w najnowsze podzespoły o najlepszych parametrach technicznych.
Dane techniczne maszyny do sputteringu PVD GALACTIC GAVA 500 CAPVD
- sterownik PLC : MITSUBISHI A1S1
- rodzaje powłok : TiN, TiCN,TiAlN, TiAlNEX, CrN, ZrN, CrAlN, TiSiAlN, AlCrN, ZrO, CrCO
- wymiary komory próżniowej (śr. x wys.) : ⌀600 x 600 mm
- maksymalna waga detalu : 500 kg
- maksymalna próżnia : 5x 6-10 mbar
- ewaporator CAPVD (2 szt.)
- sprężarka
- urządzenie chłodzące (chiller)
- pompa Rootsa : LEYBOLD 501 S (2 szt.)
- wydajność pompy Rootsa : 4040 m3/h
- ciśnienie pompy Rootsa : 3-10 mbar
- pompa turbomolekularna : LEYBOLD MAGiNTEGRA
- wydajność pompy turbomolekularnej : 2000 l/s
- ciśnienie pompy turbomolekularnej : 6-10 mbar
- uchwyty satelitarne (18 szt.)
- dystrybucja gazów procesowych : przepływomierze masowe z sensorami
- kontrola temperatury : termopara typu K
- zasilanie maszyny GALACTIC GAVA 500 CAPVD : 3x 400 V; 50 Hz
|
|